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C/C复合材料表面磁控溅射ZrN薄膜 被引量:1

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摘要 本实验是以C/C复合材料基体,以纯锆靶,通的氮气采用磁控溅射方法在C/C复合材料表面镀氮化锆膜层。本课题旨在优化工艺的研究,实验结果通过SEM观察实施镀膜后碳纤维表面的形貌状态,之后采用XRD对磁控溅射后的膜层成分进行分析。得出磁控溅射氮化锆膜最佳工艺为:基底温度250℃、溅射气压4Pa、负偏压150V、溅射功率150W、氮气流量15sccm、氩气流量20sccm、沉积时间2h。
机构地区 沈阳理工大学
出处 《湖北农机化》 2020年第4期173-173,共1页
基金 江西省科技课题青年项目,Bim技术在校园绿色建筑设计中的应用研究(GJJ181293)。
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献26

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共引文献12

同被引文献9

引证文献1

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