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应用散射光源曝光机的内层虚光改善
Improvement of inner layer virtual light by exposure machine with scattering light source
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摘要
1问题描述大多数多层PCB厂内层生产采用湿膜制作线路的方式,相对干膜生产成本低,品质良率高,管控难度低。我司在应用全自动散射光源曝光机的湿膜制作过程中出现的虚光问题,即显影不净、有余胶,如图1,影响了PCB合格率。现对其产生原因进行分析,并对可能的影响因素进行试板验证,便于后续的生产管控。
作者
刘顺风
谢国荣
Liu Shunfeng;Xie Guorong
机构地区
珠海杰赛科技有限公司
广州杰赛科技股份有限公司
出处
《印制电路信息》
2020年第4期59-62,共4页
Printed Circuit Information
关键词
多层PCB
曝光机
湿膜
散射光
良率
内层
显影不净
生产管控
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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