期刊文献+

接近接触式光刻机三点找平机构研究与应用 被引量:1

Research and Application of Three-point Leveling Mechanism in Proximity Contact Lithography Machine
下载PDF
导出
摘要 介绍了一种接近接触式光刻机对准工作台找平机构,该机构采用三点找平,容易找平,找平力小,找平时不损伤掩模版和基片涂胶面。结构简单,性能稳定可靠,维修方便。 A kind of leveling mechanism is introduced for the alignment worktable of the proximity contact lithography machine.The leveling mechanism adopts three-point leveling,which is easy to level with small leveling force,and does not damage the mask and the substrate coating surface.The structure is simple,with stable and reliable performance,and maintenance convenient.
作者 周占福 ZHOU Zhanfu(The 45th Research Institute of CETC,Beijing 100176,China)
出处 《电子工业专用设备》 2020年第3期47-49,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 三点找平 光刻机 找平力 楔形误差补偿 Three-point leveling Lithography machine Leveling force Wedge error compensation
  • 相关文献

同被引文献2

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部