期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
荷兰科技创新对我国的启示
被引量:
1
下载PDF
职称材料
导出
摘要
荷兰ASML公司,是全球唯一一家顶级芯片制造设备——极紫外光(EUV)光刻机的供应商,要想制造出7nm以及更先进制程的芯片,没有晶圆厂能离开ASML。ASML对我国EUV光刻机暂停供应,意味着我国制造出更先进的芯片难度加大,与三星等国际一流芯片制造商间的技术差距也会进一步拉大。
作者
无
机构地区
[
出处
《安徽科技》
2020年第6期7-10,共4页
Anhui Science & Technology
关键词
芯片制造商
光刻机
晶圆厂
EUV光刻
紫外光
供应商
三星
国际一流
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
21
引证文献
1
二级引证文献
0
同被引文献
21
1
王海燕,梁洪力.
瑞典创新体系的特征及启示[J]
.中国国情国力,2014(12):67-69.
被引量:2
2
苏英亮.
政府职能与城市创新生态系统研究[J]
.现代管理科学,2017,5(1):82-84.
被引量:2
3
杨洋,张艳秋.
瑞典的科技创新模式:演变与挑战[J]
.全球科技经济瞭望,2017,32(10):1-7.
被引量:5
4
张永凯,韩梦怡.
城市创新生态系统对比分析:北京与上海[J]
.开发研究,2018(4):64-70.
被引量:8
5
邱丹逸,袁永,廖晓东,胡海鹏.
营造良好创新生态理论及国外实践研究[J]
.科技和产业,2019,19(4):75-78.
被引量:1
6
郑文江,俞佳敏,黄璐,陈璐怡.
区域科技协同创新体系分析框架研究——以珠江三角洲地区与香港的区域合作为例[J]
.科技管理研究,2019,39(24):47-53.
被引量:11
7
赵长伟,王留军,应向伟.
粤苏浙鲁皖五省创新创业生态系统比较研究[J]
.工业技术经济,2020,39(2):47-54.
被引量:10
8
郭曼.
瑞士创新生态系统的核心特征及对我国创新体系建设的启示[J]
.全球科技经济瞭望,2019,34(8):28-33.
被引量:2
9
王玲杰.
创新生态的中瑞比较研究[J]
.中州学刊,2020(3):39-46.
被引量:2
10
任福君.
面向2035的中国创新文化与创新生态建设的几点思考[J]
.中国科技论坛,2020(5):1-3.
被引量:17
引证文献
1
1
付婷.
国内外创新生态系统优良地区的先进经验对内蒙古创新生态优化的启示[J]
.内蒙古科技与经济,2024(19):31-38.
1
全球第八大芯片制造商正式诞生[J]
.半导体信息,2020,0(2):26-26.
2
蔡秀萍.
如何认识我国基础研究、原始创新的差距?[J]
.中国人才,2020,0(2):6-9.
3
泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破[J]
.电子工业专用设备,2020,49(1):68-69.
被引量:1
4
牛媛媛,王天明.
ASML企业运营模式案例研究[J]
.科技创业月刊,2020,33(5):95-100.
被引量:4
5
王春晖.
美国的“封锁”将加速中国崛起[J]
.通信世界,2020,0(14):11-12.
6
弘毅.
2020数码领域创新案例TOP15[J]
.互联网周刊,2020,0(11):48-49.
7
成维,李思坤,王向朝,张子南.
极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法[J]
.光学学报,2020,40(10):14-28.
被引量:5
8
李晓娜.
创新推动进步成就观测利器——同济大学物理科学与工程学院王占山教授谈X射线空间望远镜[J]
.中国科技投资,2019,0(36):11-12.
9
Junwu Wang,Xinbing Wang,Duluo Zuo,Vassily Zakharov.
Laser-induced liquid tin discharge plasma and its EUV spectra[J]
.Chinese Optics Letters,2020,18(5):40-43.
被引量:1
安徽科技
2020年 第6期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部