国产光刻机50年之痛

7月,中科院网站刊登一则国产5nm光刻技术获突破的新闻,随后又被删除。这则新闻介绍,中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所某研究员与国家纳米中心某研究员合作,成功开发出一种新型5nm激光光刻加工方法。而这种光刻技术,使用了具有完全知识产权的激光直写设备,可以1小时制备约5×105个纳米狭缝电极,展示出规模量产的潜力。