杂多酸异质结复合材料光催化降解印染废水的应用研究

半导体光催化技术具有操作简单、条件温和、快速高效降解、无二次污染等优点,因此光催化降解技术在印染废水处理方面极具应用前景。HPA特有的金属含氧簇结构,使得HPA具有类似半导体的特性。但仍存在,如:可见光利用率低、重复使用性差、比表面积小、结构复杂等缺点。为克服以上缺点,一般采用将杂多酸固载在合适的载体,构建异质结复合光催化。本文主要综述杂多酸异质结复合材料在光催化降解印染废水中的应用。