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电子工业用超纯水设备技术及应用 被引量:2

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摘要 超纯水是应用去离子化、反渗透技术、离子交换等技术生产出来的水。针对集成电路生产用水水质要求高的现状,设计开发了超纯水系统,设计采用Make up system+Polisher system组合工艺,制备电阻率> 18MΩ·cm;DO <5 ppb;Particle <1 pcs/ml;Silica <1.5 ppb;TOC <1.5 ppb的超纯水。
出处 《清洗世界》 CAS 2021年第3期66-69,共4页 Cleaning World
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献3

  • 1王怡 郑建国.半导体工厂设施管理的“按需生产”.半导体科技,2008,(9):27-33.
  • 2陶氏化学公司液体分离事业部.陶氏膜产品与技术手册[Z].
  • 3美国海德能公司.反渗透和纳滤膜产品技术手册[z].

共引文献8

同被引文献5

引证文献2

二级引证文献2

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