低能大束流离子注入机剂量控制系统实现

Realization of dose control system for low-energy large-beam ion implanter

剂量控制技术是大束流离子注入机关键核心技术,剂量控制的精度将直接影响晶元的离子掺杂水平进而影响半导体器件的制造。大束流剂量控制系统由硬件和算法两部分构成,其中硬件系统包含量测系统、运动控制系统、冷却系统和注入机械部件等,而算法则包含束流数据采集、剂量控制流程和异常处理3部分的设计。其中,异常处理部分考虑了真空、束流和电压波动等因素,针对异常因素算法给出合理的异常处理方法和控制参数修正措施。