光学透镜领域发明专利“公开不充分”的审查策略

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摘要 “公开不充分”是光学透镜领域审查中经常涉及的法律条款,本文从光学镜头的设计过程入手,介绍了光学镜头案例涉及“公开不充分”的几种常见情况,分析了各种情况与《专利审查指南》中给出的无法实现的五种情形的对应关系。

作者涂小龙周艳红

机构地区国家知识产权局专利局专利审查协作湖北中心

出处《经济技术协作信息》 2021年第19期38-38,共1页

关键词光学透镜发明专利光学镜头五种情形公开不充分法律条款专利审查指南审查策略

经济技术协作信息

2021年第19期

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