期刊文献+

四氯化硅氢化关键反应的密度泛函理论模拟研究 被引量:2

The research of key reaction of SiCl_(4) hydrogenation with density functional theory simulation
下载PDF
导出
摘要 本文利用Gaussian软件对四氯化硅氢化过程中的关键反应进行了理论研究,相关计算均通过密度泛函理论并采用B3LYP/6-311+G(2d,p)基组和方法进行。模拟结果表明该过程所涉及的反应遵循自由基链式机理;对各基元反应能量变化以及活化能进行比较,发现该过程的链引发为热致SiCl_(4)分子均相分解为SiCl_(3)自由基和Cl原子。SiCl_(3)自由基引导并维持后续的链式扩展过程,随后经历自由基和原子间的终止反应,生成SiHCl_(3)、SiH_(2)Cl_(2)、SiH_(3)Cl和SiH_(4)等目标产物。 The key reactions that involved in hydrogenation of SiCl_(4) were theoretically studied with Gaussian software.All calculations were performed by using Density Functional Theory at the B3LYP/6-311+G(2d,p)level.Simulationresults showed that the reactions proceeded through a radical chain mechanism.The heats and activation energies of the elementary reactions were calculated.In the initiation step,heat caused SiCl_(4) molecule to undergo homolysis to SiCl_(3) radical and Cl atom.The SiCl_(3) radical induced and maintained a radical chain sequence consisting of many propagation steps and the chain was terminated by various combinations of radicals and free atoms to produce SiHCl_(3),SiH2Cl_(2),SiH_(3)Cl and SiH_(4).
作者 王虎虎 彭文才 张建树 张金利 WANG Huhu;PENG Wencai;ZHANG Jianshu;ZHANG Jinli(School of Chemistry and Chemical Engineering,ShiheziUniversity/Key Laboratory for Green Processing of Xinjiang Bingtuan,Shihezi,Xinjiang 832003,China;School of Chemical Engineering&Technology,Tianjin University,Tianjin,300072,China)
出处 《石河子大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2021年第5期537-540,共4页 Journal of Shihezi University(Natural Science)
基金 兵团重大科技项目(2017AA007,2020AA004)。
关键词 四氯化硅 氢化 密度泛函理论 模拟 SiCl_(4) hydrogenation density functional theory simulation
  • 相关文献

参考文献9

二级参考文献47

  • 1张鸣剑,李润源,代红云.太阳能多晶硅制备新技术研发进展[J].新材料产业,2008(6):29-33. 被引量:18
  • 2于站良,马文会,戴永年,杨斌,魏奎先.太阳能级硅制备新工艺研究进展[J].轻金属,2006(3):43-47. 被引量:29
  • 3马文会,戴永年,杨斌,刘大春,王华.太阳能级硅制备新技术研究进展[J].新材料产业,2006(10):12-16. 被引量:36
  • 4李国栋,张秀玲,胡仰栋.电子级多晶硅生产工艺的热力学分析[J].过程工程学报,2007,7(3):520-525. 被引量:25
  • 5唐前正,何劲,赵新征.由四氯化硅制取三氯氢硅的方法.中国:CN101700886[P].2009.
  • 6蒋建纯,张弛,张新万.四氯化硅氢化炉U形发热体及制造工艺.中国:CN101541111A[P].2009.
  • 7张日清,范猛,周勇.一种四氯化硅制备三氯氢硅的设备.中国:CN201372206Y[P].2009.
  • 8Holger Walter, Gerhard Roewer, Klaus Bohmhammel. Mech- anism of the silicide-catalysed hydrodehalogenation of silicon tetrachloride to trichtorosilane [ J ]. J Ghem Soc, Faraday Trans, 1996,92 (22) :4605 - 4608.
  • 9Dean J A. Lange' s Handbook of Chemistry [ M ]. 15th Ed. Beijing : Science Press ,2005.
  • 10O'Mara W C,Herring R B,Hunt L P. Handbook of Semiconductor Silicon Technology [M].Noyes Publ New Jersey, 1990: 5-9.

共引文献35

同被引文献8

引证文献2

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部