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Erratum:Magnetic Proximity Effect in an Antiferromagnetic Insulator/Topological Insulator Heterostructure with Sharp Interface[Chin.Phys.Lett.38(2021)057303]

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摘要 We should add the following acknowledge:Jing Teng thanks the support from the Youth Innovation Promotion Association Project,Chinese Academy of Sciences.
作者 刘宇新 牛雪翻 张仁聪 张庆华 滕静 李永庆 Yuxin Liu;Xuefan Niu;Rencong Zhang;Qinghua Zhangg;Jing Teng;Yongqing Li(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics,Institute of Physics,Chinese Acculcmy of Sciences.Beijing 100190,China;School of Physical Sciences,University of Chinese Acndcmy of Sciences,Beijing 100049,China)
出处 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2021年第10期70-70,共1页 中国物理快报(英文版)
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