稀有气体纯化中氟化物对吸气剂的影响和解决方案

本文阐述了一种解决半导体用高纯稀有气体纯化器在杂质氟化物含量高时短时间(30~60天)反应器阻塞损坏的方法。本文通过改变纯化系统运行方式和设计新形式反应器的方式来解决这一问题。新的稀有气体纯化系统在原料氟化物杂质含量达到30 ppm时仍然能保证24个月的连续无故障运行。