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过渡金属掺杂GaN基稀磁半导体的研究进展

Progress of Transition Metal Doped GaN Based Diluted Magnetic Semiconductors
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摘要 阐述稀磁半导体、GaN基稀磁半导体、过渡金属掺杂GaN基稀磁半导体的研究进展,探讨过渡金属掺杂GaN薄膜,可有效增强稀磁半导体的磁性及光电性。 This paper describes the research progress of diluted magnetic semiconductors, GaN Based Diluted Magnetic Semiconductors and transition metal doped GaN based diluted magnetic semiconductors. It discusses the transition metal doped GaN film, which can effectively enhance the magnetic and photoelectric properties of diluted magnetic semiconductors.
作者 郭俊梅 王锦仁 刘科敏 孙琳 张玉宾 徐胜楠 GUO Junmei;WANG Jinren;LIU Kemin;SUN Lin;ZHANG Yubin;XU Shengnan(Sifang college,Shijiazhuang Railway University,Hebei 051132,China)
出处 《电子技术(上海)》 2022年第5期10-11,共2页 Electronic Technology
关键词 半导体材料 稀磁 GAN 金属掺杂 semiconductor materials diluted magnetism GaN metal doping
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