哈工大科研团队攻克超黑涂层常温制备技术瓶颈

哈尔滨工业大学最近发布消息,该校化工与化学学院吴晓宏教授团队在超黑涂层技术领域取得重要突破,团队攻克了超黑涂层常温制备技术瓶颈,得到了一种朗伯特性显著的高稳定超黑涂层。超黑涂层能吸收几乎所有照射在其上的光,应用领域十分广泛,绝大多数精密光学仪器都需要超黑涂层来屏蔽光学干扰,提升信噪比和探测能力。此外,超黑涂层能够隐藏高低起伏的物体轮廓,可为设备或人员提供必要的保护。