期刊文献+

氟碳纳米结构薄膜调控干式电抗器二次电子发射特性研究

Study on the Regulation of Secondary Electron Emission Characteristics of Dry Reactors by Fluorocarbon Nanostructured Films
下载PDF
导出
摘要 当前,广泛采用的修饰方法包括粗糙化处理构建微/纳米级陷阱和沉积以银、氮化钛、阿洛丁为代表的低二次电子发射系数镀层,然而由于表面氧化、吸附水分子和羟基自由基等原因,内二次电子的平均散射自由程延长,逸出能力增强,导致上述金属和半导体镀层抑制二次电子发射的效果欠佳。本文针对上述问题提出以低表面能的氟碳薄膜为镀层材料,结合绝缘材料二次电子发射特性的微观影响因素,提出氟碳薄膜的二次电子发射特性宏观调控方法。
出处 《电力设备管理》 2022年第20期114-117,共4页 Electric Power Equipment Management
基金 国网天津市电力公司科技项目(KJ22-1-36)。
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献23

  • 1杨吉军,徐可为.多晶薄膜表面粗化与生长方式转变[J].物理学报,2007,56(2):1110-1115. 被引量:7
  • 2Tanimoto H,Fujiwara K,Mizubayashi H 2005 Sci.Technol.Adv.Mater.6 620
  • 3Thomas L,Jauberteau I,Jauberteau J L,Cinelli M J,Aubreton J,Catherinot A 1996 Appl.Phys.Lett.68 1634
  • 4Family F,Vicsek T 1985 J.Phys.A 18 L75
  • 5Meakin P 1998 Fractal,Scaling and Growth Far From Equilibrium (Cambridge:Cambridge University Press,MA) p20-145
  • 6Gladczuk L,Patel A,Demaree J D,Sosnowski M 2005 Thin Solid Films 476 295
  • 7Chuang J C,Chen M C 1998 Thin Solid Films 332 213
  • 8Loh S W,Zhang D H,Li C Y,Liu R,Wee A T S 2004 Thin Solid Films 462 240
  • 9Smith,Donald L 1995 Thin Film Deposition:Principles and Practice (New York:McGraw-Hill) p119
  • 10Lindstr(o)m T,Isidorsson J,Niklasson G A 2001 Thin Solid Films 401 165

共引文献3

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部