阀门及气相沉积设备

申请(专利)号:CN202211093253.9公开(公告)日:2022-10-11申请(专权)人:拓荆科技(上海)有限公司摘要:本发明涉及一种阀门,以及一种气相沉积设备。所述阀门安装于反应腔体的上盖板的上表面,并包括进气口、第一出气口及第二出气口。所述进气口经由进气管道连接气源。所述第一出气口经由第一出气管道连接排气通道。所述第二出气口经由所述上盖板连通到其下方的气相沉积反应腔体。通过采用该结构,所述阀门能够快速切换反应气体的流向,以满足高精度控制薄膜厚度的实时性需求和稳定性需求。