科学家研制出极低缺陷亚埃级粗糙度石英超光滑表面

中科院大连化学物理研究所化学激光研究中心研究员李刚、研究员金玉奇团队与生物能源化学品研究组合作,以自主合成的新型超细纳米氧化铈(CeO_(2))为抛光浆料,利用化学机械抛光(CMP)技术,加工出极低缺陷亚埃级(<0.1 nm)表面粗糙度的超光滑石英光学表面,并深入研究了加工过程中CeO_(2)纳米颗粒与石英表面的物理及化学变化过程,进一步提升了对CMP抛光机制的理论认知。