高能脉冲磁控溅射镀膜机

High Power Impulse Magnetron Sputtering Coating Machine HiPIMS-002

主要技术与性能指标,等离子体离化率:Ti等离子体>80%,离子能量控制:10-1000 eV,离子注入电压:40 kV(可定制),搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统,朗缪尔探针:6个检测探针,极限真空:1×10^(−4) Pa,真空室有效尺寸:Φ1000×1000 mm(按需定制),HiPIMS磁控溅射电源及阴极:6部(柱靶或平面靶选配)。