复合处理下CVD合成钻石光谱与荧、磷光动态变化特征的研究

以浙江某两家企业近期产出的CVD合成钻石为研究对象,基于光致发光(PL)光谱,结合DiamondView^(TM)钻石观测仪等设备,就CVD合成钻石在高能电子束辐照、高温高压及退火过程中,对PL光谱与荧、磷光动态变化特征予以跟踪检测。结果表明:在405nm激发光源下,HTHP处理可使存在于CVD合成钻石中468nm与533nm处的零声子线减弱直至消失;辐照处理导致钻石产生470nm处的TR12光学缺陷;在532nm激发光源下,HTHP处理导致样品PL谱图中575nm与572nm处的峰强比值N(1575/572)相比处理前明显减小,但经HTHP处理再经辐照处理的CVD合成钻石其辐照前后样品PL光谱无明显改变;此外,高温高压与辐照处理均可改变样品的磷光特性,且HTHP处理对样品进行去褐色调的同时可明显改变样品的荧光颜色。