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元器件引线去金搪锡工艺

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摘要 搪锡工艺是提高元器件引线可焊性,保证电路板焊接质量的关键工艺过程。文章重点探讨了搪锡工艺要求,包括搪锡前对操作环境、元器件外观以及其它的检查和准备;搪锡过程中影响搪锡质量的因素确定;选用锡锅搪锡所对应的操作过程以及搪锡后元器件外观、装联等要求。同时,设计一款操作便捷、可定高控制的低成本搪锡工装,实现批量元器件引线高质、高效搪锡。
出处 《今日制造与升级》 2023年第11期69-71,共3页 Manufacture & Upgrading Today
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参考文献1

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  • 1陈松,刘泽光,陈登权,罗锡明,许昆,邓德国.Au/Sn界面互扩散特征[J].稀有金属,2005,29(4):413-417. 被引量:26
  • 2王继林,白磊,李珍珍,姚俊华.无引线镀金表面贴装器件搪锡技术[J].航天制造技术,2011(5):33-35. 被引量:6
  • 3周涛,汤姆.鲍勃,马丁.奥德,贾松良.金锡焊料及其在电子器件封装领域中的应用[J].电子与封装,2005,5(8):5-8. 被引量:66
  • 4华苇.QJ3117-99航天电子电气产品手工焊接工艺技术要求[S].北京:中国航天工业总公司,1999.
  • 5林金堵.PCB的无铅化表面涂(镀)覆层[C]//2006中日电子电路秋季大会国际PCB技术/信息论坛论文集,2006:290.
  • 6Bader W G. Dissolution of Au, Ag, Pd, Cu and Ni in a molten tin-lead solder[J]. Weld J. Res. (Suppl) ,1962,28(12) : 551-557.
  • 7Nakahara S, McCoy R J . Interfacial void structure of Au/Sn/Almetallization on Ga2AI2As light-emitting diodes [ J ]. Thin Solid Films, 1980,72 : 457.
  • 8李晓麟.试论电子装联禁(限)用工艺的应用[C]//2009中国高端SMT学术会议论文集,2009:112-115.
  • 9航天电子电气产品手工焊接工艺技术要求[S].QJ3012-99,国防科学技术工业委员会,1999.
  • 10IPC J-STD-001 E. Requirements for soldered electrical and electronic assemblies. 2008,IPC.

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