陶瓷基片用氮化硅粉体专利现状

本文通过深入挖掘专利数据,重点分析了陶瓷基片用氮化硅粉体的国内外专利申请分布、重点申请人、重要制备工艺、具体的改进方向以及达到的技术功效,并进一步阐明了氮化硅粉体制备四种制备方法的工艺特点以及潜在的改进方向,为我国企业破除国外的专利壁垒和技术封锁、加速国产化替代给出了相关建议和参考。