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某电子洁净厂房超纯水方案设计

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摘要在半导体器件设备、电子元件及电子专用材料制造等电子洁净厂房设计时,工艺设备通常需要超纯水(18.2MΩ·cm)进行清洗,本文通过超纯水系统方案设计、供水管路系统、纯水管材选择等的介绍,以期为超纯水系统设计提供参考。

作者赵立德屈红超

机构地区中国电子系统工程第四建设有限公司

出处《中国建筑金属结构》 2024年第S02期38-40,共3页 China Construction Metal Structure

关键词电子洁净厂房超纯水半导体

分类号 F42 [经济管理—产业经济]

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中国建筑金属结构

2024年第S02期

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