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化学镀铜的进展 被引量:28

Development of Electroless Copper Plating
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摘要 综述了化学镀铜的应用领域 ,化学镀铜工艺的研究进展 ,简述了化学镀铜机理的研究现状 。 A review is made on the application areas and the development of technics of electroless copper plating. The research works on the mechanism of electroless copper plating are also summarized. Some research problems needed to be settled in the future are indicated.
出处 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期5-6,11,共3页 Surface Technology
关键词 化学镀铜 进展 工艺 机理 Electroless copper plating Technics Mechanism
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献27

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共引文献52

同被引文献243

引证文献28

二级引证文献180

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