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薄膜中正常晶粒生长膜厚效应的理论分析 被引量：1

Theoretical analysis of thickness effect of normal grain growth in thin films
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摘要 根据自由表面在晶界处的开槽现象,对薄膜中正常晶粒生长膜厚效应进行了理论分析.结果表明,正常晶粒生长被塞积时的平均晶粒尺寸与膜厚成正比. Based on the phenomenon of surface grooving at grain boundary, a theoretical analysis has been made for the thickness effect of normal grain growth in thin films.
作者 张美荣 张建民
机构地区 陕西师范大学图书馆 陕西师范大学物理学与信息技术学院
出处 《陕西师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期39-41,共3页 Journal of Shaanxi Normal University：Natural Science Edition
基金 国家自然科学基金资助项目(50271038 59931010)
关键词 金属薄膜 晶粒生长 膜厚效应 开槽现象 薄膜结构 晶粒尺寸 thin films grain growth thickness effect
分类号 O484.1 [理学—固体物理]
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献17

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共引文献14

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引证文献1

二级引证文献1

陕西师范大学学报（自然科学版）
2002年 第4期

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