0.1μm级刻蚀技术
-
1高晓萍.刻蚀技术的进展[J].光机电世界,1994,11(3):17-20.
-
2半导体技术[J].中国无线电电子学文摘,2003,0(6):30-41.
-
3彭忠献,王方,李荫波,黄敝.深U型槽的反应离子刻蚀技术[J].微电子学与计算机,1990,7(2):1-3. 被引量:2
-
4李文菊,张鸿海,师汉民,陈日曜.STM式三维nm级轮廓仪的研究[J].华中理工大学学报,1996,24(7):34-36. 被引量:1
-
5飞思卡尔推出基于ARM Cortex-M技术的微控制器平台[J].伺服控制,2015,0(5):20-20.
-
6益民.0.4~0.25μm时代的电极布线形成技术[J].电子与封装,2002(5):61-64.
;