射频磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺探讨

Deposition of SiO2 Film with Radio Frequency and Magnetron Sputtering

介绍了在玻璃衬底上射频磁控溅射SiO2薄膜的工艺技术,给出了薄膜淀积速率,膜内组分与工艺条件特别是溅射气压的关系。实验证明,和其他镀膜技术相比,射频磁控溅射可以在更低的温度下制备致密、均匀、重复性好的SiO2薄膜。