真空镀膜工艺参数对于薄膜性能的影响被引量：3

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摘要薄膜镀制是固态的膜层材料在真空条件下蒸发或者溅射,经过气相传输,在基片表面沉积成薄膜。相同的薄膜设计,因操作人员、时间、设备、工艺参数等的不同,结果相差甚大。影响薄膜特性的工艺参数非常多,但对于这些工艺参数的测控却非常有限。举例来说,

作者孔建军

机构地区山东北方光学电子有限公司

出处《国防制造技术》 2011年第5期51-54,62,共5页 Defense Manufacturing Technology

关键词薄膜性能工艺参数真空镀膜工艺薄膜光学基片温度真空镀膜机反应蒸镀真空度沉积速率离子轰

同被引文献22

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国防制造技术

2011年第5期

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