摘要
与硅IGBT相比,SiC高压功率DMOSFET器件的导通电阻和开关损耗更低,工作温度更高,在智能电网的应用中具有巨大的应用前景。南京电子器件研究所研制出一款6.5kV25ASiC功率DMOSFET器件。建立了高压SiC DMOSFET仿真模型并开展元胞结构设计,通过采用低界面态密度栅极氧化层制备以及JFET区选择掺杂等先进工艺技术,在60μm厚外延层上制备了6.5 kV SiC DMOSFET,芯片有源区尺寸37 mm^2。该器件击穿电压大于6.9 kV,导通电流大于25 A,峰值有效沟道迁移率为23 cm^2/(V·s),比导通电阻降低到44.3 mΩ·cm^2,缩小了与国际先进水平的差距。
作者
李士颜
刘昊
黄润华
陈允峰
李赟
柏松
杨立杰
LI Shiyan;LIU Hao;HUANG Runhua;CHEN Yunfeng;LI Yun;BAI Song;YANG Lijie(State Key Laboratory of Wide-bandgap Semiconductor Power Electronic Devices,Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing,210016,CHN)
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
北大核心
2019年第1期77-77,共1页
Research & Progress of SSE