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以钕激光激发脉冲氙气流为基础的无碎片软X射线源
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摘要
由纳秒脉冲激光激发脉冲氙气流(气云),获得“清洁”(无碎片)脉冲软X射线源。用X射线多层聚焦镜得到18nm的射线像。用宽带非周期多层镜和大孔径透射光栅的消像散光谱仪,记录了射线源12.5-25mm区的光谱。借助绝对校准的高速X射线电二极管AXUV-5确定了软X射线产额。
作者
白光
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
2002年第12期21-26,共6页
Laser & Optoelectronics Progress
关键词
钕激光
无碎片
激光等离子体
脉冲气体靶
氙
软X射线
绝对校准光电二极管
消像散摄谱仪
多层镜
分类号
O434.1 [机械工程—光学工程]
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2002年 第12期
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