摘要
本文主要研究高温 SOI CMOS倒相器在 (2 7~ 30 0℃ )宽温区的瞬态特性。研究结果表明 :当采用 N+ PN+和P+ PP+ 结构薄膜 SOI MOSFET组合 ,并且其结构参数满足高温应用的要求 ,则 SOI CMOS倒相器实验样品在 (2 7~ 30 0℃ )
WT10.5,10.BZ]In this paper, the transient characteristics of high temperature SOI CMOS inverter in (27~300℃) are studied.Research results show that when combination structure of N\++PN\++ and P\++PP\++ thin film SOI MOSFET is employ and structure parameters meet the demands of high temperature property the SOI CMOS inverter experimental sample have excellent high temperature transient characteristics in (27~300℃).
出处
《电子器件》
CAS
2002年第4期324-326,共3页
Chinese Journal of Electron Devices
基金
模拟集成电路国家级重点实验室资助项目 (批准号 :2 0 0 0 JS 0 9.8.1JW0 60 4)