电子束缩小投影曝光系统的掩模研究
Study on Mask for Projection Electron-beam Lithography System
摘要
介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备。
The fabrication, performance and use of the membrane plus scatterer mask for the projection electron beam lithography system are described.
出处
《微细加工技术》
2002年第3期12-16,22,共6页
Microfabrication Technology
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