摘要
主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点 ,针对在原理论证机上做的实验 。
The principles and features of EBPL system are introduced.The experiments on the EBPL experimental system indicate that the current of condenser lens could influence the lithographic results.The analysis for the infuences is given in detail.
出处
《微细加工技术》
2002年第3期23-27,共5页
Microfabrication Technology
关键词
电子束缩小投影曝光
聚光镜
投影镜
反差
光刻
electron beam projection lithography (EBPL)
condenser lens
projector lens
contrast
