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最近的等离子技术

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摘要 最近出现了各种用干法制作材料的方法,例如,采用真空蒸镀法和溅射法制薄膜。但由于其成膜速度很慢,所以实用化受到限制。近来又出现了利用等离子技术制造薄膜的方法。为了避免离子对基板的伤害,又研究了仅用自由基离子,由光激发的办法制作薄摸。构成薄膜的要素是原子,如以其附着于基板上的形态分类,大致可分为三类:1.蒸镀;2.溅射;3.在气体和基板界面反应。现将这三种干法制膜技术分述如下。
作者 吕洪久
出处 《化工新型材料》 CAS 1986年第1期27-29,36,共4页 New Chemical Materials
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