0.6NA、364nm波长激光束直接描画机的对准性能

本文提出了一台高分辩率激光扫描光刻系统的对准性能数据。该系统采用了通过成像物镜进行对准的同轴对准原理(TTL),其具有多束光路、亮场和暗场照明及高低倍放大光学系统的特点。整机的总套刻精度优于0.1μm。