期刊文献+

BG-101J直接分步曝光机实用化汇报

下载PDF
导出
摘要 概述 BG—101J直接分步曝光机是91年10月初运到北京半导体器件三厂的。十一月中旬完成了安装调试工作。之后,器件三厂从苏州订购净化小室,今年5月份完成了净化小室的安装调试工作。这期间器件三厂还作了中间版及工艺条件等准备工作。到今年6月下旬,完成了这些工作之后开始光刻器件。
作者 张纪直
出处 《电子工业专用设备》 1992年第4期48-50,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部