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BG-101J直接分步曝光机实用化汇报
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摘要
概述 BG—101J直接分步曝光机是91年10月初运到北京半导体器件三厂的。十一月中旬完成了安装调试工作。之后,器件三厂从苏州订购净化小室,今年5月份完成了净化小室的安装调试工作。这期间器件三厂还作了中间版及工艺条件等准备工作。到今年6月下旬,完成了这些工作之后开始光刻器件。
作者
张纪直
机构地区
机电部第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
1992年第4期48-50,共3页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
半导体器件
光刻
曝光机
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
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