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原子吸收光谱法连续测定金属硅中铜、锰、镍 被引量:13

Determination of copper,manganese and nickel in silicon metal by atomic absorption spectrometry
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摘要 采用原子吸收光谱技术,测定金属硅中的杂质铜、锰、镍,研究了干扰及其消除方法。铜、锰、镍检出限分别为0.009,0.008和0.033mg/L,相对标准偏差小于1.5%。加标回收率95.1%~104.1%。方法简便、快速。 The flame atomic absorption spectrometry was applied for the determination of copper,manganese and nickel in silicon,and the interferences of matrix and its eliminating method were studied.The detection limits of copper,manganese and nickel are 0.009,0.008 and 0.033mg/L respectively,The relative standard deviation is less than 1.5%,The recovery of standard addition is 95.1%-104.1%.The proposed method is simple and rapid.
出处 《冶金分析》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期28-29,16,共3页 Metallurgical Analysis
关键词 原子吸收光谱法 测定 金属硅 flame atomic absorption spectrometry,copper,manganese,nickel,silicon metal
  • 相关文献

参考文献4

  • 1GB/T2881-1991,工业硅技术条件[S].
  • 2GB/T14849-1993.工业硅化学分析方法[S].[S].,..
  • 3SN/T0550-1996,出口金属硅中铁、铝、钙的测定[S].
  • 4原子吸收光谱分析编写组.原子吸收光谱分析[M].北京:地质出版社,1979.205,201.

共引文献36

同被引文献743

引证文献13

二级引证文献93

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