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萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性光学性能研究 被引量:8

Third-Order Optical Nonlinearity in Schiff-Base Liquid Crystal with Naphthalimide
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摘要 采用波长λ =5 32nm和脉宽τ0 =35 ps的Nd∶YAG锁模脉冲激光 ,运用双光束前向简并四波混频(DFWM )的方法 ,测量了两种萘二甲酰亚氨基席夫碱类液晶材料的三阶非线性效应 ,测得其离共振三阶非线性系数 χ(3 ) 及响应时间 ,计算了它们的超极化率γ(3 ) 和非线性折射率n2 ,同时探讨了它们的非线性形成机制。 By using Nd∶YAG mode locked pulse laser (λ=532 nm, τ 0=35 ps), the third order nonlinear optical susceptibility χ (3) , and time response properties of liquid crystals containing Schiff base and Naphthalimide are measured with forward degenerate four wave mixing (DFWM). The corresponding nonlinear refractive index coefficient n 2, second hyperpolarizability γ (3) are calculated. The mechanism for their nonlinear effect is discussed.
出处 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期18-21,共4页 Acta Optica Sinica
基金 上海市科技启明星项目 教育部重点项目资助课题
关键词 非线性光学 三阶非线性 液晶材料 席夫碱类 萘二甲酰亚氨基 nonlinear optics third order optical nonlinearities liquid crystal schiff base naphthalimide
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