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CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量

Fabrication of CVD Diamond Film Window Samples and Test on the Mechanical Performance of Diamond Film
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摘要 本文以氢气和丙酮为原料 ,采用电子增强热丝CVD法 ,在硅片 (10 0 )基体上沉积一层金刚石薄膜 ,并采用光刻法和湿式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜自支撑窗口试样。实验结果表明 ,所制备的金刚石薄膜自支撑窗口刻蚀彻底 ,形状规则 ,能够很好地满足鼓泡法的实验要求 ,对CVD金刚石薄膜力学性能的测量具有重要意义。 Diamond thin film is deposited on silicon slice (100), using hydrogen and acetone as gas resource, by means of electron-enhanced hot filament chemical vapor deposition (HFCVD). Free-standing window sample of diamond thin film was fabricated by means of photolithography and anisotropic wet etching. According to the test results, the window of the sample was etched thoroughly and the window figure of the sample was regular. So, the sample is very suitable for bulge test. It is significant for testing of performance of CVD diamond thin film.
出处 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2002年第6期3-5,共3页 Diamond & Abrasives Engineering
基金 国家自然科学基金资助项目 (项目编号 5 0 0 0 5 0 13)
关键词 CVD 金刚石薄膜 窗口试样 制备 力学性能 测量 硅基体 化学刻蚀 鼓泡法 diamond film silicon substrate chemical etching bulge test
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参考文献5

  • 1吕反修.CVD金刚石膜研究近期进展与应用[J].物理,1995,24(10):606-613. 被引量:6
  • 2Robert J. Hohlfelder, Doctoral dissertation, Dec. 1998
  • 3William D. Nix, Mechanical properties of thin films, Metallurgical Transactions A 20A(November), 1989:2217 - 2245
  • 4L. Davis, K. holmes, J, L. Davidson, etc, Diamond microelectro-mechanical sensors(DMEMS), IEEE International Symposium on Industrial Electronics v 1 Jul 7- 10 1998 IEEE, IEEE 1998:274-279
  • 5M. Deguchi, N. Hase, M. Kitabatake, et al, Piezoresistive property of CVD diamond films, Diamond Related Materials, 1997(6) :367 - 373

二级参考文献10

  • 1王建军,吕反修,杨保雄.聚乙烯对低压气相沉积金刚石成核的促进作用[J].高技术通讯,1993,3(7):17-20. 被引量:1
  • 2吕反修,Proc of ICNDST-4,1994年
  • 3Liao X N,Phys Lett,1994年,11卷,12期,782页
  • 4钟国仿,薄膜科学与技术,1994年,7卷,2期,1页
  • 5Jiang X,Appl Phys Lett,1993年,62卷,26期,3438页
  • 6吕反修,Diamond and Related Materials,1993年,2卷,575页
  • 7李惠琪,薄膜科学与技术,1993年,3期,200页
  • 8吕反修,北京科技大学学报,1992年,14卷,2期,548页
  • 9Tzeng Y,Diamond Films and Technology,1991年,1卷,1期,31页
  • 10吕反修,王建军,杨保雄,陈俊,张泽勃,解思深.C60对金刚石低压气相沉积的影响[J].高技术通讯,1992,2(10):1-5. 被引量:2

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