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SOI——新一代硅材料

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摘要 SOI是一种在硅材料与硅集成电路巨大成功的基础上出现的、有独特优势、能突破硅材料与硅集成电路限制的新技术,被国际上公认为是"二十一世纪的微电子技术"、"新一代硅"。本文综述了SOI的特点,国际SOI技术应用动态,国内SOI技术应用动态,SOI技术国内研究状况与上海的优势,以及建议实现上海和我国在SOI领域跳跃式发展。五年内,实现4—8英寸SOI材料产业化,建成国际先进水平的国家级SOI材料和器件创新研究、开发基地,形成集科研、开发、生产为一体的高新技术产业。
作者 林成鲁
出处 《集成电路应用》 2003年第1期76-80,共5页 Application of IC
  • 相关文献

参考文献1

  • 1M. Zhang,R. Scholz,H. Weng,C. Lin. Defects and voids in He+-implanted Si studied by slow-positron annihilation and transmission electron microscopy[J] 1998,Applied Physics A Materials Science & Processing(5):521~525

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