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掺钯硅快恢复二极管V_F~T_(RR)兼容性研究

Study on V_F~T_(RR) Tradeoff of Palladium Doped Fast Recovery Silicon Diode
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摘要 作者研究了掺Pd硅快恢复二极管的VF~TRR兼容性,得到掺钯硅二极管的VF~TRR兼容性略优于掺铂、掺金二极管的结果;这一结果与目前广泛采用的Baliga理论的预测不相符合,作者对此进行了分析与讨论.根据实验结果,作者认为应用掺钯技术有望制造出性能优良的超快恢复二极管. The authors studied the VF~TRR tradeoff of palladium doped fast recovery silicon diode, and got the result that the VF~TRR tradeoff of Pddoped diode was slightly superior to that of Ptdoped diode and Audoped diode. Though the result was not in accordance with the prediction of Baliga theory, the authors analyzed it. The use of the Pddoped technique in practice had potential value in research the better ultrafast recovery diode. 
机构地区 四川大学物理系
出处 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期74-76,共3页 Journal of Sichuan University(Natural Science Edition)
基金 国家自然科学基金
关键词 掺钯 硅快恢复二极管 VF-TRR兼容性 反恢复时间 反向漏电流 性能指标 palladium diffusion fast recovery diode V_F~T_(RR) tradeoff reverse recovery time reverse leakage current
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献4

  • 1吴汲安,半导体学报,1988年,9卷,27页
  • 2唐九耀,半导体学报,1987年,8卷,67页
  • 3周洁,半导体学报,1987年,8卷,277页
  • 4阮圣央,半导体学报,1984年,5卷,265页

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