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新型氨气等离子体有机材料刻蚀工艺研究

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摘要 本文系统研究了氨气等离子体进行有机材料(BARC)的刻蚀,研究了工艺参数:压力,静电吸盘温度对刻蚀的影响。使用氨气可以得到高的刻蚀速率,通过刻蚀参数的控制,可以在保持光刻胶顶部形貌的条件下得到直的侧壁形貌。发射光谱的研究显示,NH3等离子体中的活性组分为H*和NH*.H*是刻蚀的主要活性物种,NH自由基会产生CN聚合物保护刻蚀目标的侧壁。
出处 《集成电路应用》 2014年第2期28-32,共5页 Application of IC
  • 相关文献

参考文献3

  • 1[1] Songlin Xu. J Vac.Sci.Technol.B . 2007
  • 2JP.
  • 3[3] Hisao Nagai. Journal of Applied Physiology .

共引文献62

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