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芯片制造过程中的微影技术

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摘要 半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的工艺流程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的工艺流程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服。
作者 周建民
出处 《集成电路应用》 2015年第2期36-37,共2页 Application of IC
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