期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
芯片制造过程中的微影技术
下载PDF
职称材料
导出
摘要
半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的工艺流程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的工艺流程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服。
作者
周建民
出处
《集成电路应用》
2015年第2期36-37,共2页
Application of IC
关键词
集成电路
制造工艺
微影技术
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
麦利.
EUV微影技术与7nm工艺[J]
.集成电路应用,2016,0(4):24-25.
被引量:8
2
ASML极紫外光EUV设备助台积电攻关10纳米以下工艺流程[J]
.集成电路应用,2014,0(12):43-43.
被引量:1
3
产业点击[J]
.电子测试(新电子),2004(3):2-6.
4
潘家立,陶玉柱.
半导体产业微影技术之关键材料——光刻胶[J]
.集成电路应用,2003,20(3):55-56.
5
严华.
IP电话技术及其应用[J]
.上海铁道科技,2007(3):78-80.
6
周逸聪.
引领技术潮流,突破应用瓶颈——烽火通信40G DW DM相干解决方案[J]
.通信世界,2013(9):38-38.
7
曹淑敏.
宽带无线移动通信推动ICT领域融合创新[J]
.世界电信,2010(11):51-54.
被引量:2
8
市场趋势[J]
.世界电子元器件,2014,0(12):66-66.
9
莫大康.
极紫外光EUV光刻技术促进半导体格局新变化[J]
.集成电路应用,2015,0(1):18-19.
被引量:6
10
蒋英华.
简单VOIP通信系统的配置和使用[J]
.科技信息,2009(20).
集成电路应用
2015年 第2期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部