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0.9μm设计流程的提升

Promotion of Design Flow of 0.9 Micron Technology
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摘要 介绍了将 0 9μm设计流程中的版图数据库缩到 0 6 μm的过程 ,然后列出了使用 0 6 μm单元库所应作的流程的修改 ,主要包括布局布线和最终版图处理的过程 ,最后简单介绍了单元性能库的提升。 The process of shrinking 0.9 micron layout library down to 0 6 micron is introduced, then the modifications for using 0 6 micron library in the design flow of place and route are listed, finally, the promotions of the performance of the library cells are simply presented.
作者 居水荣
出处 《微电子技术》 2003年第1期16-22,共7页 Microelectronic Technology
关键词 设计流程 布局布线 ASIC 集成电路 版图数据库 Design flow Library Place and route Layout library
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