摘要
本文给出一维互连系统中纯位相片计算结果,介绍用反应离子刻蚀制备纯位相片的方法以及用此位相片进行一维互连的实验结果。实验结果与理论计算相符。
The calculation result in one dimensional interconnection system is proposed in this paper. The method of preparing phase masks with ion-etching is introduced. The above masks are applied to one dimensional interconnection experiment. The experimental results are consistent with the theory.
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1992年第5期272-277,共6页
Journal of Optoelectronics·Laser
基金
国家自然科学基金
关键词
光学互连
纯位相片
反应离子刻蚀
optical interconnection
phase-only masks
ion-etching.