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纯位相片光学互连实验研究

Experimente of Optical Interconnection with Phase Masks
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摘要 本文给出一维互连系统中纯位相片计算结果,介绍用反应离子刻蚀制备纯位相片的方法以及用此位相片进行一维互连的实验结果。实验结果与理论计算相符。 The calculation result in one dimensional interconnection system is proposed in this paper. The method of preparing phase masks with ion-etching is introduced. The above masks are applied to one dimensional interconnection experiment. The experimental results are consistent with the theory.
出处 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期272-277,共6页 Journal of Optoelectronics·Laser
基金 国家自然科学基金
关键词 光学互连 纯位相片 反应离子刻蚀 optical interconnection phase-only masks ion-etching.
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参考文献1

  • 1霍裕平,杨国桢,顾本源.用光学方法实现幺正变换及一般线性变换(Ⅱ)——用迭代法求解[J]物理学报,1976(01).

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