用于光刻的准分子激光器
出处
《光电子技术与信息》
1992年第2期24-27,共4页
Optoelectronic Technology & Information
-
1侯小真.光刻用准分子激光器[J].光机电信息,1998(8):23-26.
-
2刘宝胜,李志惠.准分子激光器的新发展[J].激光集锦,1991,1(3):27-31.
-
3荣莹.2000年后的光刻趋势[J].微电子技术,2000,28(4):50-52.
-
4罗春生,刘哲伦.可调谐准分子激光器[J].激光与光学,1990(3):15-16.
-
5邓志杰.欧洲为将来的半导体工艺作准备[J].有色与稀有金属国外动态,1998(4):3-4.
-
6朱扬明,李钰.相移技术在光刻中的应用[J].电子瞭望,1992(4):24-27.
-
7徐振明,徐常胜.硅片光刻中的暗场对准实验研究[J].激光与光电子学进展,1995,32(A01):213-213.
;