Mo/Si多层膜的XUV特性比较
-
1郭旭,周锦智.XUV掠入射光栅摄谱仪的设计与研制[J].光学仪器,1990,12(3):35-38.
-
2小型自动光学时畴反射计[J].激光与光电子学进展,1995,32(9):24-25.
-
3关庆丰,吕鹏,王孝东,万明珍,顾倩倩,陈波.质子辐照下Mo/Si多层膜反射镜的微观结构状态[J].物理学报,2012,61(1):324-330. 被引量:3
-
4反射计[J].光机电信息,2002(10):54-54.
-
5项阳.软X射线界面传输特性及应用研究[J].光学精密工程,1994,2(4):20-30.
-
6李永兵,杨宏(审核).光相干域反射计[J].导航与控制,2005,12(4):18-18.
-
7王新,穆宝忠,黄怡,朱京涛,王占山,贺鹏飞.13.5nm Schwarzschild显微镜系统及成像实验[J].光学精密工程,2011,19(8):1709-1715. 被引量:3
-
8Dani.,BL,袁凤.用于校准光学时域反射计的标准参考光纤[J].国外计量,1991(4):52-53.
-
9日本企业研制出一体化镀膜测量装置[J].材料保护,2005,38(7):4-4.
-
10曹健林.软X射线多层膜反射镜的设计、制备与检测[J].光学机械,1990(5):33-40. 被引量:3
;