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300mm晶圆对半导体设备的挑战 被引量:3

The Challenge of Semiconductor Equipment from the 300mm Wafer
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摘要 300mm晶圆生产线必须采用新标准、新技术、新流程、新设备、新布局、新厂房和新设施等。因此,300mm晶圆向半导体设备提出了挑战。 The300mm wafer production line must adopts new standard,new technology,new tach-nological process,new equipment,new layout,new workshop and new installation.The300mm wafer challenges to the semiconductor equipment.
作者 翁寿松
出处 《电子工业专用设备》 2003年第2期11-14,共4页 Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词 300MM晶圆 半导体设备 生产线 光刻 高K绝缘层 应变硅技术 铜互连技术 mm wafer Production line New technology New equipment
  • 相关文献

参考文献6

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二级参考文献1

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共引文献10

同被引文献17

引证文献3

二级引证文献12

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