出处
《国际学术动态》
1992年第4期53-57,共5页
International Academic Developments
同被引文献9
-
1查良镇.二次离子质谱学的进展[J].现代科学仪器,1993(3):11-12. 被引量：2
-
2邹庆生,查良镇.二次离子质谱学的最新进展──第9届国际二次离子质谱学会议评述[J].质谱学报,1995,16(2):29-36. 被引量：2
-
3姜志雄,查良镇,王佑祥,陈春华,陈新.原子团离子在Al_(x)Ga(1-x)As基体组分SIMS定量分析中的应用[J].真空科学与技术,1996,16(5):316-322. 被引量：1
-
4岳瑞峰,王佑祥,陈新,陈春华,徐传骧.MCs^+ -SIMS技术及其应用[J].真空科学与技术,1997,17(3):198-205. 被引量：6
-
5周新华,刘丛强.新一代高性能二次离子质谱在地球和空间科学中应用…[J].真空科学与技术,1998,18(A12):14-22. 被引量：1
-
6秦超,刘容.硅中硼的SIMS定量分析[J].真空科学与技术,1998,18(A12):181-187. 被引量：6
-
7谢洪.洁净室国际标准ISO14644[J].建筑热能通风空调,2000,19(1):26-28. 被引量：4
-
8朱怡峥,桂东,陈娉,马农农,韩象明,查良镇.二次离子质谱的深度分辨本领[J].真空,2000,37(5):14-17. 被引量：6
-
9查良镇.第八届国际二次离子质谱学会议概论[J].真空科学与技术,1992,12(1):61-66. 被引量：1
二级引证文献13
-
1游俊富,王虎,赵海山.几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术[J].现代仪器,2005,11(1):39-41. 被引量：2
-
2王菊琳,许淳淳,于淼.青铜文物表面腐蚀产物的组成及深度分布研究[J].中国腐蚀与防护学报,2005,25(3):163-166. 被引量：9
-
3尹会听,王洁.二次离子质谱分析技术及应用研究[J].光谱实验室,2008,25(2):180-184. 被引量：7
-
4钟世德,王书运.材料表面分析技术综述[J].山东轻工业学院学报（自然科学版）,2008,22(2):59-64. 被引量：7
-
5张伯超,杭纬,黄本立.无机质谱法在固体直接分析中的应用[J].中国无机分析化学,2011,1(1):13-23. 被引量：9
-
6陆大荣,梁汉东,王凯旋,盛守祥.磺隆类除草剂的飞行时间二次离子质谱研究[J].质谱学报,2011,32(2):86-94. 被引量：1
-
7王海丽,王镇波,卢柯.二次离子质谱仪测量扩散曲线时“零曲线”的分离[J].金属学报,2012,48(2):245-249. 被引量：1
-
8祝兆文,郑涛,侯杰,聂锐,马宏骥,刘坤,郭猜,丁富荣.MeV能量Si^+引起二次离子发射的研究[J].核电子学与探测技术,2012,32(2):141-144. 被引量：2
-
9邱春玲,曾小辉,龙涛,包泽民,王培智.双等离子体离子源的工作特性[J].吉林大学学报（工学版）,2015,45(1):161-166. 被引量：2
-
10张琦玥,聂洪港.质谱成像技术的研究进展[J].分析仪器,2018(5):1-10. 被引量：11
-
1Wern.,HW.四十年二次离子质谱学发展：个人回顾[J].真空科学与技术,1998,18(A12):1-7.
-
2查良镇,桂东,朱怡峥.二次离子质谱学的新进展[J].真空科学与技术,2001,21(2):129-136. 被引量：13
-
3尹会听,王洁.二次离子质谱分析技术及应用研究[J].光谱实验室,2008,25(2):180-184. 被引量：7
-
4李干佐.第72届胶体和界面会议综述[J].国际学术动态,1999,0(2):47-49.
-
5邹庆生,查良镇.二次离子质谱学的最新进展──第9届国际二次离子质谱学会议评述[J].质谱学报,1995,16(2):29-36. 被引量：2
-
6查良镇.二次离子质谱学的拓宽与前沿[J].国际学术动态,1999,0(2):27-33.
-
7韦斯林,米广春,王祖浩.继承 转型 发展——2008年全国化学学科教育转型研究学术论坛综述[J].化学教育,2008,29(12):13-15. 被引量：2
-
8成一,闫石,李艳春.北美第37届热分析会议综述[J].分析试验室,2010,29(3):122-124.
-
9桂东,查良镇.GaAs二次离子发射的氧和铯效应[J].真空科学与技术,1998,18(A12):109-115.
-
10秦超,刘容.硅中硼的SIMS定量分析[J].真空科学与技术,1998,18(A12):181-187. 被引量：6
;
