等离子体辅助化学汽相沉积期间等离子体增强的薄膜光电发射的…
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1Lu,ZP,丁晓加.金刚石的热等离子体化学汽相沉积的工艺研究第Ⅱ部分：…[J].国外核聚变与等离子体应用,1993(4):53-58.
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2Lu,ZP,丁晓加.金刚石的热等离子体化学汽相沉积的工艺研究第Ⅰ部分：基体…[J].国外核聚变与等离子体应用,1993(4):45-52.
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3卢兆伦.在钽衬底上生长金刚石薄膜[J].杭州大学学报（自然科学版）,1993,20(2):240-241.
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4顾长志,王春蕾,金曾孙,吕宪义,邹广田.电子增强化学气相沉积法制备金刚石膜[J].高压物理学报,1994,8(3):220-223. 被引量：4
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5方亮,王万录,丁培道,廖克俊,王健.P型金刚石薄膜压阻效应的理论研究[J].重庆大学学报（自然科学版）,2000,23(1):78-81. 被引量：1
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6廖克俊,王万录.直流等离子体CVD法合成的金刚石膜的断裂强度研究[J].物理学报,1994,43(9):1559-1563. 被引量：4
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7Kohza.,M,巴兵.用RF诱发热等离子体化学汽相沉积方法高速沉积大面积金刚石[J].国外核聚变与等离子体应用,1994(4):70-72.
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8任侠.等离子体化学气相沉积及其在沉积超硬膜方面的应用[J].物理,1992,21(12):742-746.
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9吴振宇,杨银堂,汪家友.用ECR-CVD方法制备SiO_2薄膜[J].真空电子技术,2004,17(6):48-50.
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10唐璧玉,靳九成,靳浩,颜永红,李绍绿,夏金童,陈小华,陈宗璋.化学汽相沉积金刚石薄膜的生长[J].材料研究学报,1997,11(3):334-336. 被引量：3
