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集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用
被引量：
10
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摘要
本文根据集成电路制作技术的不同发展阶段对超净高纯试剂的不同要求,阐述了超净高纯试剂的应用、需求及发展状况。
作者
穆启道
机构地区
北京化学试剂研究所
出处
《集成电路应用》
2003年第2期56-60,共5页
Application of IC
关键词
集成电路
制作技术
超净高纯试剂
应用
发展
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
引文网络
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